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納糯三維科技(上海)有限公司 PPGT2|Quantum X系列|雙光子微納激光直寫系統|雙光子微納光刻系統
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Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司,并于2021年加入國際生物公司BICO,.此次戰略合并鞏固了其在高精度微納加工領域的地位。作為基于雙光子聚合技術( 2PP) 的微納加工領域市場先進人物,Nanoscribe 在全球 30 多個**擁有各科領域的客戶群體, 在全球先進大學和創新科技企業的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。基于2PP 微納加工技術方面的知識,Nanoscribe為先進科學研究和工業創新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。

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上海雙光子灰度光刻技術3D打印 納糯三維科技供應

2024-11-17 04:04:37

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。另外,還可以實現精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。歡迎咨詢納糯三維科技(上海)有限公司基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ?)的Quantum X打印系統可以實現一氣呵成的制作。上海雙光子灰度光刻技術3D打印

基于雙光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術,Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何,在面積達25cm?的區域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯合創始人兼首席**官(CSO)MichaelThiel表示,該公司正在通過其新機器為科學和工業用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實驗室和工業中的快速原型制作和批量生產。”。上海進口灰度光刻激光直寫Quantum X是全球頭一臺灰度光刻激光直寫系統。

該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備,可實現在25cm?面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統,非常適合標準6英寸晶圓片工業批量加工制造。

國際上,激光直寫設備是光掩模制備的主要工具,尤其在高世代TFT-Array掩模的平面圖形,面積可達110英寸(瑞典MICRONIC)單價高于1.5億元/套,制備一個線寬分辨率1.5微米的110吋光掩模單價500萬RMB;然而,這種激光直寫設備并不適用于微納3D形貌結構和深紋圖形制備。已有的基于藍光405nm直接成像光刻(DIL)適合光刻分辨率較低的圖形,也不適用于3D結構的灰度光刻。因此,面向柔性光電子材料與器件的需求,必須攻克大面積3D形貌的微結構的高效高精度制備,解決海量數據高效率轉化、高精度數據迭代與疊加曝光,高速率飛行直寫技術的難題。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您講解灰度光刻的特點和應用。

全新的QuantumX無掩模光刻系統能夠數字化制造高精度2維和2.5維光學元件。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統,在充分滿足設計自由的同時,一步制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件,達到所見即所得。全新的NanoscribeQuantumX系統適用于工業生產中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統制作工藝。而且QuantumX提供了完全的設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度。快速、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期,實現了低成本的微納加工。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ?)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。上海高精度灰度光刻技術3D打印

實現對光刻膠表面深度的精確控制,從而制備出更加復雜和精細的微納結構。上海雙光子灰度光刻技術3D打印

2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達**的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。上海雙光子灰度光刻技術3D打印

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